Pml pal的問題,透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列各種有用的問答集和懶人包

明志科技大學 材料工程系碩士班 程志賢所指導 Faizan Husian的 Effect of nitrogen doping on ZnO thin films prepared by RF reactive magnetron sputtering (2020),提出Pml pal關鍵因素是什麼,來自於。

而第二篇論文國立中興大學 環境工程學系所 吳向宸所指導 呂昱昇的 以生物資訊資料庫巨量分析評估Micrococcus sp.對於人工合成化合物之降解功能潛力 (2020),提出因為有 Micrococcus sp.、JGI/IMG、KEGG、Degradation pathways、BTEX的重點而找出了 Pml pal的解答。

接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧:

除了Pml pal,大家也想知道這些:

Effect of nitrogen doping on ZnO thin films prepared by RF reactive magnetron sputtering

為了解決Pml pal的問題,作者Faizan Husian 這樣論述:

Undoped and N doped ZnO (NZO) films were fabricated by reactive magnetron sputtering using Zn metal target. Structural, optical, chemical and electrical characterization has been performed using XRD, UV-Vis spectroscopy, Raman spectroscopy, and Hall effect. The XRD revealed that the texture formati

on takes place with N introduction, and the grain size decreases with high N2 flow. Anomalous Raman vibrational modes were recorded specifically for NZO films at 275 cm-1, and 580 cm-1 which is occurred due to the formation of NO defects and activation of the intrinsic type of defects such as Zni an

d/or VO respectively. The Hall effect is performed for all the deposited films, the resistivity increases with N2 addition, the resistivity is stable up to N2 =1.4 sccm, and with higher N2 concentration the films become highly resistive, it is due to the self-compensation of the carriers of the hol

e (NO) and electron (N2)O. The deposited films show the n-type conductivity, which can be attributed due to the presence of intrinsic defects observed in Raman spectra of NZO films. The transmittance of the films decreases with N2 addition which implies the redshift in the spectra and bandgap shrink

age takes place. The XPS revealed that the formation of NO holes being formed inside the NZO films. However, the high density of the electron type carriers outnumbers the available holes inside the films and possess n-type conductivity.

以生物資訊資料庫巨量分析評估Micrococcus sp.對於人工合成化合物之降解功能潛力

為了解決Pml pal的問題,作者呂昱昇 這樣論述:

  Micrococcus sp. 菌株對於生物修復(bioremediation)過程扮演著重要的角色。它們可以分解各種不常見和有害的化合物,例如吡啶、殺蟲劑、除草劑、染料、多環芳烴、聚丙烯腈聚合物、鄰苯二甲酸酯和氯化聯苯等外來物質(xenobiotic),尤其是在石油污染土壤及地下水等污染場址,經常可以看到它們的蹤跡。  雖然Micrococcus sp.具有多種外來物質的降解潛能,但是在生物降解生理特性上的研究有礙於需要投入大量的人力物力,因此發展也較緩慢,而在當今發表過的文獻仍未針對Micrococcus sp.各有機污染物降解能力有十分完整的研究;因此,透過生物資訊學的方式可以協助

我們預先評估Micrococcus sp.可能具有那些外來物質降解潛能。  所以本研究是藉由生物資訊學的方式,了解Micrococcus sp.目前在JGI/IMG平台上已完成染色體基因定序之資訊中,調查是否包含有其他人工合成有機物污染物降解的潛力,將與KEGG中芳香族化合物以及外來物質(xenobiotic) 降解相關的代謝途徑比對後,並且進行文獻搜索,評估哪些降解途徑已被文獻報導,哪些則有機會是潛在未被發現的降解功能。並進一步分析未被研究報導的降解功能。藉此了解在Micrococcus sp.中的哪一些菌株具有較高的可能性。  經JGI/IMG平台及芳香族化合物、外來物質降解等代謝途徑調查

後發現JGI/IMG平台收錄Micrococcus sp.染色體基因定序資料中可媒合到芳香族化合物代謝途徑198種酵素中佔32種(16.16%),外來物質代謝途徑439種酵素中佔76種(17.31%);從芳香族化合物代謝途徑圖中對應到Micrococcus sp.資料出現最多的KO為K13953,共79次,代表的是醇脫氫酶,K05710,共59次,代表的是3-苯基丙酸酯雙加氧酶鐵氧還蛋白成分;而在外來物質(xenobiotic) 代謝途徑圖中對應到Micrococcus sp.資料出現最多的KO為K00252代表的是戊二酰輔酶A脫氫酶,出現259次。並從文獻的搜尋比對中得知,K13953、K0

0252的確為Micrococcus sp.常見的代謝功能;另外K05710為反式肉桂酸(trans-Cinnamate)與苯丙酸諾龍(Phenylpropanoate)的首步酵素,卻沒有相關的生物降解研究報導,所以在Micrococcus sp.集合內具有較多酵素的Micrococcus sp. TA1、Micrococcus luteus ATCC 49442等菌株,或許可以作為未來降解研究的素材。  另外也針對苯(Benzene)、甲苯(Toluene)、乙苯(Ethylbenzene)、二甲苯(Xylene)等BTEX化合物做了分析,結果顯示Micrococcus sp.不具有BTEX

首步代謝途徑酵素存在,文獻上也確實有兩極的研究結果,故BTEX在往後的降解研究中,仍然可以將Micrococcus sp.作為研究的素材,並進一步探討Micrococcus sp.仍有未被發現的降解酵素存在。