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明志科技大學 機械工程系機械與機電工程碩士班 郭啟全所指導 游政諺的 積層製造之蠟線材研製與應用 （2017），提出K wax 鐵粉去除劑關鍵因素是什麼，來自於快速模具、線材、熔融沉積成型、異形冷卻水路、表面粗糙度、田口法。
而第二篇論文國立中興大學 環境工程學系所 廖文彬所指導 鍾慧穎的 利用電解技術活化過硫酸鈉降解含乙醯胺基酚廢水之研究 （2015），提出因為有 高級氧化法、電化學、乙醯胺基酚、過硫酸鹽、硫酸根自由基的重點而找出了 K wax 鐵粉去除劑的解答。
積層製造之蠟線材研製與應用
為了解決K wax 鐵粉去除劑 的問題，作者游政諺 這樣論述：
近年工業發展對複雜形狀產品之模具要求增高，運用異形冷卻水路提升冷卻效率已經是常見技術。為了快速製造出異形冷卻水路之快速模具，本研究運用快速模具技術發展具有低熔點之蠟線材，並運用熔融沉積成型技術製作出易於移除之蠟材異形冷卻水路。本研究針對蠟型件之最適製程參數進行探討，並致力於蠟材異形冷卻水路之表面平滑處理以提升異形冷卻水路之表面品質。最後驗證此方法之可行性，運用蠟材異形冷卻水路來製作具有異形冷卻水路之快速模具。 初步實驗結果顯示，蠟型件之最適製程參數為噴嘴溫度62 ℃、列印速度80 mm/s、底板溫度40 ℃以及擠出流量100%，並且最大表面粗糙度Rmax值為66.4 μm。蠟型件之浸泡
平滑處理參數為浸泡溫度65 ℃、持續時間10秒，並Rmax值從66.4 μm降至24.0 μm，且Rmax之改善率達63.86%。本研究運用田口法研究蠟型件之最佳製程參數。結果顯示，蠟型件之最佳製程參數為噴嘴溫度64 ℃、列印速度60 mm/s、底板溫度40 ℃以及擠出流量100%。
利用電解技術活化過硫酸鈉降解含乙醯胺基酚廢水之研究
為了解決K wax 鐵粉去除劑 的問題，作者鍾慧穎 這樣論述：
醫藥與個人保健用品為新興污染物的一種，由於醫藥的進步，養成國人濫用及隨意棄置的習慣，其殘留物質則會流入環境，造成環境生態污染。其中，乙醯胺基酚(ACE)不僅使用量高，於原水中亦有較高的檢出率。現行處理有機廢水多採用高級氧化程序(AOPs)，而過硫酸鹽與Fenton皆屬於以自由基反應之氧化劑，可以適當方式活化，例如：光、熱、電、過渡金屬、超音波等方式。 本研究嘗試利用電解技術活化過硫酸鈉（SPS），產生具有氧化能力的硫酸根自由基（SO4-‧)，以降解水中含ACE之廢水，並透過改變系統中之酸劑、pH值、電壓及SPS濃度等參數，探討有機物降解效率之影響，找尋最適操作條件。並針對五種氧
化程序：直接電解（E-A）、SPS（S-A）、電/SPS（ES-A）、電/SPS/過氧化氫（ESH-A）、電/SPS/亞鐵離子（ESF-A），探討各程序間之影響與差異。 在所有程序中，以ESF-A有最佳的ACE去除效果，在最適操作條件下(pH=3、硫酸作為酸劑、[SPS]= 9.9 mM、電壓為5 V)，添加1 mM之Fe2+至ESF-A系統中，20 min即可達到100%之去除率。相較之下，其他程序之結果顯示：直接電解實驗之去除率為31.08%；S-A處理程序中，ACE並未降解而是形成疊代ACE等物質；ES-A氧化程序中，若延長操作時間至12 hr，其去除率為63.17%；ESH-A的
實驗結果得知，過多的H2O2會導致去除率下降。