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國立臺北科技大學 電機工程系 曾國雄所指導 莊淯舜的 PLC 應用於咖啡調質機之系統設計與整合 （2020），提出Honeycomb 燈具 評價關鍵因素是什麼，來自於PLC、LabVIEW、樹莓派、人機介面、太陽光、咖啡、調質。

而第二篇論文國立中央大學 光機電工程研究所 陳奇夆所指導 吳聲旻的 一種應用於UV-LED平行曝光機光源的雙反射罩設計 （2015），提出因為有 UV-LED平行曝光機、雙反射罩、有效曝光區域、照度均勻度的重點而找出了 Honeycomb 燈具 評價的解答。

最後網站【Honey Comb】超薄星鑽LED36W遙控臥室吸頂燈(V3943-36W)則補充：修繕園藝 > · 燈泡/燈飾. > · 燈飾照明品牌 > · Honey Comb.

接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧：

除了Honeycomb 燈具 評價，大家也想知道這些：

PLC 應用於咖啡調質機之系統設計與整合

為了解決Honeycomb 燈具 評價的問題，作者莊淯舜 這樣論述：

現今生活中能帶來便利性的觸控機台，只有 ibon 和路面上常見的 Youbike 操作機等，而因應咖啡產業在台灣普及率逐漸的上升，越來越多人對於咖啡的口感慢慢的有所要求。本論文以咖啡調質機的面向出發，使用人造太陽燈，針對常見兩種咖啡豆處理法的豆種，調整不同照光時長或光質，分析對咖啡豆的影響，並整理出可以配合可程式邏輯控制器的人機整合系統，期許在未來能出現更多配合數據應用的人機整合機台。在人機整合上，台達可程式邏輯控制器與其人機設備和 LabVIEW 均可達到快速開發和整合。在咖啡調質上，於 FTIR 分析圖中，未照光、照光 2 小時以及照光 4 小時等樣品分析上發現，在 3500~3100c

m-1 以及1400~600cm-1 中有很明顯的差異。在日曬豆中，生豆照光時間與濃度呈 U 曲線，而烘豆呈線性，烘豆中濃度比生豆中高；而在水洗豆中，照光時間與濃度呈倒 U曲線，生豆中濃度比烘豆中高。而於杯測中，未照光、標準光與朝陽光等樣品風味評估上也發現明顯的差異，綜觀上述分析中可以發現在不同照光時長或光質，對咖啡調質均有幫助。

一種應用於UV-LED平行曝光機光源的雙反射罩設計

為了解決Honeycomb 燈具 評價的問題，作者吳聲旻 這樣論述：

本論文主要在設計一種應用於平行曝光機的雙反射罩式UV-LED光源模組。首先，利用光線追跡的演算關係，建立一快速設計程式，以設計使UV-LED光線趨近準直的二次光學元件—內、外反射罩，再藉由商用光學追跡軟體進行驗證與進階設計。接著，使用燈具配置演算程式，尋求燈具配置位置初階解，再利用商用軟體驗證與進階分析與調整。最後，在光源模組中，增設曝光區域外層反射罩，以提升能量有效使用效率與照度均勻度。本研究之雙反射罩設計原則是考慮燈具為軸對稱，藉由幾何關係，利用中心光線及邊緣光線進行光線追跡，使光線經雙反射罩後，以對稱的發散角度出射類準直光，依照此設計原則，循序建構出雙反射罩輪廓。並利用評價函數的方式分

析，以高斯函數為基底給定權重值，挑選出一個燈具高度為45.08mm；半高全寬(FWHM)為8.0°及燈具有效使用效率為58.38%之設計結果。在光源系統的設計方面，將由85顆UV-LED光源及曝光區域外層反射罩組成，當UV-LED光源在蜂巢排列之間距91mm下，增加一個向內摺的外層反射罩，將會有一個照度均勻度為91.16%的結果，其有效曝光區域可達600×600 mm^2，FWHM=7.9°，平均輻射照度45.9mW/cm^2。根據模擬結果顯示，本研究成功設計了一個UV-LED平行曝光機之光源系統。

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