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薄膜光學量測系統應用與量測系統分析

為了解決鎰術鍍膜評價的問題，作者黃柏仁 這樣論述：

光學檢測技術(optical inspection technology)經常應用於光學元件、薄膜材料及金屬表面加工之表面粗糙度(surface roughness)量測。本論文之目的係以簡易的光學設備，架設量測速度快及精確度高之光學檢測系統，可運用於大量生產之產線上進行非破壞性即時量測。本研究以無線性偏極He-Ne雷射及白光干涉儀分別量測低溫多晶矽薄膜(low temperature polycrystalline silicon thin-film)之表面粗糙度，提出預測表面粗糙度之最佳趨勢方程式與最佳量測角度，最大量測誤差率可控制在8.61 %以內。接續整合數位電錶與光偵測器，開發低成

本與高精度之快速光學檢測系統，運用於低溫多晶矽膜與氮碳化鉻(chromium carbon nitride)表面粗糙度量測，最大量測誤差分別控制於5.72 %及10.07 %，檢測時間節省效率分別為50 %及40 %。本研究發展出一套薄膜光學檢測系統，並運用量測系統分析(measurement system analysis)來評估本系統之量測能力，研究結果顯示，系統之重複性與再現性百分比為7.46 %，低於量測系統可被接受之判定準則10 %。本系統特色包括：非破壞式檢測、檢測速度快、建構原理簡單、穩定度與可靠度佳。