輻射率的問題，透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列各種有用的問答集和懶人包

霍金大見解：留給世人的十個大哉問與解答

為了解決輻射率的問題，作者史蒂芬．霍金 這樣論述：

　　本書將是你最後一次能讀懂霍金的機會 　　牛頓給了我們答案，霍金卻給了我們問題。 　　而且霍金所提出的問題，仍將在往後數十年間， 　　持續引領出重大的突破與進展…… 　　我們將可歸因於，我們是站在霍金肩膀上的緣故。 　　——索恩（Kip S. Thorne），2017年諾貝爾物理獎得主 　　霍金在這本全球矚目的遺作裡， 　　提出了關於人類文明如何延續的十個大哉問， 　　並且清晰說出自己的見解： 　　大哉問之一：上帝存在嗎？ 　　大哉問之二：宇宙是怎麼開始的？ 　　大哉問之三：宇宙中還有其他智慧生命嗎？ 　　大哉問之四：我們能預測未來嗎？ 　　大哉問之五：黑洞裡面是什麼

？ 　　大哉問之六：時間旅行有可能嗎？ 　　大哉問之七：我們能在地球上存活下來嗎？ 　　大哉問之八：我們應該殖民太空嗎？ 　　大哉問之九：人工智慧將會比我們聰明嗎？ 　　大哉問之十：我們如何形塑未來？ 　　霍金與漸凍人症搏鬥數十年， 　　腦袋中除了進行最尖端的物理學思考， 　　他念茲在茲的，都是我們人類如何繼續蓬勃發展、 　　如何保護最脆弱的地方、如何保有理性思維、 　　以及應該如何教育孩子以面對未來。 　　霍金一生幽默、樂觀奮鬥、永不放棄的精神， 　　也洋溢在這本遺作《霍金大見解》裡。  

輻射率進入發燒排行的影片

通訊設備之熱傳分析與改良研究

為了解決輻射率的問題，作者林鴻吉 這樣論述：

近年來，電子通訊設備處理速度與傳輸速度大幅提升，隨之而來的高溫已經成為設計人員必須面對的課題。本文研究之通訊設備是在自然對流情況下，僅靠流體本身之溫度差進行熱傳遞，過去憑著經驗與試誤方式進行設計，往往浪費大量時間與成本，因此需要有系統性的理論與實驗進行比對，並在有限時間內找出散熱模組之效能最佳化策略。 本文研究通訊設備系統內之有限空間散熱效能，利用熱流分析軟體FloTHERM 12並配合田口方法進行模擬規劃，品質特性為溫度低(望小)並選用直交表L9(34) 四因子三水準準位進行模擬，依照過往產品經驗選定以下四因子：散熱器表面塗層之熱輻射率(A)、導熱矽膠片之導熱係數(B)、散熱鰭片數量

(C)、散熱鰭片高度(D)。依照田口法實驗設計進行模擬並得出9組數據，透過Minitab 20統計軟體以品質特性望小為目標進行統計，得出本實驗散熱最佳因子水準組合為：A3B3C2D3，也就是散熱器表面塗層為石墨稀奈米碳、導熱矽膠片之導熱係數為5 W/(m·K)、鰭片數量為10 pcs、鰭片高度為45 mm。研究結果發現關鍵因子為導熱矽膠片，其S/N比為0.34，各水準溫度差異達到3.63°C，然而在主要電子零件其S/N比提升至0.56，各水準溫度差異達到5.85°C；在進行熱模擬分析與實驗量測數據比較，結果誤差為3.01%，因此熱模擬分析有相當程度的可信度，在產品研究與開發過程中若搭配田口方法

與Minitab統計分析，將可快速且有效的取得最佳設計方案。

六氟化硫封閉式組合電器帶電檢測技術及應用

為了解決輻射率的問題，作者魏鋼，劉航，汪金剛等（編） 這樣論述：

隨著狀態檢修應用研究的逐步深化，氣體絕緣金屬封閉開關設備（GIS）帶電檢測技術日漸成熟，能夠為設備狀態評價提供更加準確、全面的資訊，加強帶電檢測技術在GIS設備中的應用變得越來越重要。   本書涵蓋特高頻局部放電檢測、超聲波局部放電檢測、紅外熱成像檢測、SF6氣體洩漏及成分檢測、X射線檢測、機械振動檢測、避雷器阻性電流測試等內容，通過各專案原理、方法、運用及故障分析介紹，輔以典型案例參考，使讀者對GIS帶電檢測技術具有較為全面的認識。

以光子晶體共振結構增強二硫化鉬之光致發光

為了解決輻射率的問題，作者朱桓岳 這樣論述：

本篇論文，我們提出利用PMMA轉印法及高精密壓合轉印法將二維光子晶體共振腔與大面積成長之二硫化鉬薄膜作結合，模態部分選擇了出光功率高的能帶邊緣Γ點，並透過調變光子晶體結構的晶格常數和孔洞大小，將二硫化鉬的激子激發波段與光晶共振波段重合，使二硫化鉬的光經不斷反射後增加其載子複合時間，並大幅提升自發輻射率。同時，我們也針對邊帶型光晶作孔洞的調變，加強其侷限能力及垂直出光能力。另外，缺陷型光子晶體共振腔的設計都是為了進一步提升光致發光效率。首先，我們利用兩套模擬軟體Rsoft和COMSOL定義光子晶體結構的色散關係找到目標模態，再針對電場分佈與波長的對應關係，找到實際元件的各項參數，並用既有的半導

體製程技術得到懸空之光晶元件，選用適合大面積成長二硫化鉬的PMMA轉印法將兩者整合，同時，也用高精密壓合轉印法將懸空之光晶和二硫化鉬薄膜結合，再比較兩者的光致發光效率。最後，也成功在保持薄膜完整性的情況下，使二硫化鉬的PL得到提升。我們也期待將此轉印法結合不同的二維材料或是其他奈米共振腔以增加PL增幅甚至達到雷射元件。