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大同大學 工業設計學系(所) 涂永祥所指導 易哲華的 高屏占比智慧型手機之設計研究 （2018），提出側邊指紋辨識手機關鍵因素是什麼，來自於智慧型手機、高屏占比、喜好度、全面屏。
而第二篇論文國立中央大學 光機電工程研究所 陳奇夆所指導 林筱芳的 具積體型稜鏡體之指紋辨識光學模組的光學特性分析研究 （2006），提出因為有 田口方法、影像對比度、相對畸變量、成像畸變量的重點而找出了 側邊指紋辨識手機的解答。
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高屏占比智慧型手機之設計研究
為了解決側邊指紋辨識手機 的問題，作者易哲華 這樣論述：
隨著科技的進步，越來越多電子、非電子產品的功能被智慧型手機取代，人們使用手機的時間也隨之增加，為了提供使用者更方便的操作以及舒適的觀看環境，手機的螢幕除了要大之外，又不能難以握持，有些廠商開始讓手機螢幕左右兩側邊框變窄，甚至將螢幕盡可能地延伸至手機整個正面，達到更高的屏占比，全面屏的概念也因此出現，而在手機提升屏占比的同時，影響了手機一些元素的變化，各家手機廠商對於這些元素的變動，也有不同的處理方法，本研究的目的便是希望了解使用者對於這些不同設計元素的看法與喜好度，讓設計師在未來在設計這種類型的手機時，能有所依據。本研究蒐集 2016-2017 年間市面上屏占比達到 78%以上，採用全面屏設
計的手機，整理並分類出較重要的六個元素，分別是全面屏的類型、螢幕角落類型、自拍鏡頭位置、音量鍵與電源鍵是否同側、主鏡頭位置、指紋掃描位置，並列出八款代表性手機，採用李克特五點量表問卷方式進行元素喜好度調查。結果發現極窄邊非異形全螢幕、圓角螢幕、上置前鏡頭、中間偏上方的主鏡頭、以及螢幕下方指紋掃描最受到喜好。最後，利用元素喜好度調查之結果，設計出高屏占比手機之版型，並與市面上銷量最佳的智慧型手機做比較，再以李克特五點量表問卷詢問受測者，對手機的整體喜好度，驗證新設計之高屏占比手機是否受到喜好及探討結果。
具積體型稜鏡體之指紋辨識光學模組的光學特性分析研究
為了解決側邊指紋辨識手機 的問題，作者林筱芳 這樣論述：
光學式指紋辨識模組的原理，主要是藉由指紋中未接觸到稜鏡的紋谷，與接觸到稜鏡的紋脊，發生全反射與消散（被吸收）現象，造成光線能量強弱的情形，再經由成像透鏡成像於感測器上，達到擷取指紋影像的功能。光學設計之初，為了能有效、快速判斷設計架構之正確性，視發生全反射現象的「紋谷」，為數個發光的「點光源」，以此概念建構之模型，簡稱「點近似模型」。事實上會發生全反射現象的紋谷，是「線光源」發光，而非理想點光源發光，因此以線光源發光概念建構之模型，本文簡稱「類指紋模型」。本文以點近似模型與類指紋模型，在ASAP光機軟體內，分別模擬四種已知指紋辨識模組（傳統式、改良式、新型一、新型二）架構，並探討可辨識的指紋
大小、成像畸變量、相對畸變量與影像對比度的差異。由類指紋模型分別模擬傳統式、改良式、新型一及新型二可得結論如下：在指紋位置+7.5 mm與-7.5 mm時，改良式之影像對比度各為0.65及0.64，傳統式則為0.56及0.32，明顯看出改良式之成像品質優於傳統式。在指紋位置+7.5 mm與-7.5 mm時，新型一之影像對比度各為0.95及0.50，新型二則為0.72及0.90，差異並不明顯，但以整體指紋位置相較，新型二的影像對比度皆在0.72以上，明顯優於新型一。本文提出以田口方法之直交表，配合國際ISO10110公差標準，進而分析傳統式、改良式、新型一與新型二四種光學模組之對稱非球面鏡與非對
稱非球面鏡的允差範圍，是否符合制式規範。藉由田口方法的分析，可知各因子對成像品質影響大小，以做為調整結構參數的依據。最後更進一步修正新型一與新型二的架構，使其在正、負指紋方向的影像對比度更好。